Kính hiển vi điện tử quét tốc độ cao HEM6000
  • Mua Kính hiển vi điện tử quét tốc độ cao HEM6000,Kính hiển vi điện tử quét tốc độ cao HEM6000 Giá ,Kính hiển vi điện tử quét tốc độ cao HEM6000 Brands,Kính hiển vi điện tử quét tốc độ cao HEM6000 Nhà sản xuất,Kính hiển vi điện tử quét tốc độ cao HEM6000 Quotes,Kính hiển vi điện tử quét tốc độ cao HEM6000 Công ty

Kính hiển vi điện tử quét tốc độ cao HEM6000

Trình điều khiển quét tốc độ cao
Thời gian giữ ảnh: 10 ns/pixel; Tốc độ thu nhận tối đa: 2×100M pixel/s
Hệ thống lọc điện tử
Tín hiệu SE/BSE có thể được chuyển đổi tự do và tỷ lệ trộn tín hiệu có thể điều chỉnh được.
Hệ thống làm lệch tốc độ cao hoàn toàn bằng tĩnh điện
Nó có thể thực hiện chế độ trường nhìn rộng với độ phân giải cao. Với kích thước điểm ảnh 4 nm, trường nhìn tối đa đạt 32 μm × 32 μm.
Công nghệ giảm tốc giai đoạn lấy mẫu
Nó làm giảm điện áp tiếp đất của các electron tới và đồng thời cải thiện hiệu quả thu gom các electron được tái chế.
Thấu kính mục tiêu điện từ hỗn hợp ngâm
Từ trường của thấu kính vật kính bao phủ mẫu vật, giúp giảm thiểu quang sai và đạt độ phân giải cao.

Kính hiển vi điện tử quét tốc độ cao HEM6000

Mô tả sản phẩm

HEM6000 High-Speed Scanning Electron Microscope

Kính hiển vi điện tử quét tốc độ cao HEM6000 (SEM) định nghĩa lại việc chụp ảnh công nghiệp và khoa học bằng cách kết hợp tốc độ thu nhận cực nhanh với độ phân giải ở mức nanomet, cho phép phân tích mẫu diện tích lớn ở nhiều quy mô khác nhau cho các ứng dụng từ sản xuất chất bán dẫn đến khoa học vật liệu. Được thiết kế để đạt hiệu quả và độ chính xác cao, nó vượt trội hơn các kính hiển vi điện tử quét phát xạ trường thông thường với tốc độ chụp ảnh nhanh hơn gấp 5 lần, trở thành công cụ tối ưu cho nghiên cứu năng suất cao và kiểm soát chất lượng.

Ưu điểm công nghệ cốt lõi

HEM6000 tích hợp sáu công nghệ đột phá để mang lại hiệu suất vượt trội:

  1. Trình điều khiển quét tốc độ caoĐạt được thời gian giữ ảnh 10 ns/pixel và tốc độ thu nhận ảnh 2×100 triệu pixel/giây, cho phép chụp ảnh các mẫu vật động ở mức độ mili giây.

  2. Hệ thống lọc điện tử: Tự do chuyển đổi giữa tín hiệu Electron thứ cấp (SE) và Electron tán xạ ngược (BSE), với tỷ lệ pha trộn có thể điều chỉnh để tăng cường độ tương phản trong các vật liệu phức tạp.

  3. Hệ thống làm lệch tốc độ cao hoàn toàn bằng tĩnh điệnCho phép chụp ảnh trường rộng độ phân giải cao (kích thước điểm ảnh 4 nm, trường nhìn tối đa 32 μm×32 μm) với độ méo hình tối thiểu.

  4. Công nghệ giảm tốc giai đoạn lấy mẫuGiảm điện áp tiếp đất của các electron tới trong khi tăng hiệu quả thu thập electron tái chế, điều này rất quan trọng đối với việc chụp ảnh độ phân giải cao ở điện áp thấp.

  5. Thấu kính mục tiêu điện từ hỗn hợp ngâm: Sử dụng phương pháp ngâm trong từ trường để giảm thiểu quang sai, đạt được độ phân giải 1,3 nm ở 3 kV (SE) và 2,2 nm ở 1 kV (SE).

  6. Súng bắn electron cường độ cao, dòng điện lớnĐảm bảo phát xạ electron ổn định để tạo ra hình ảnh nhất quán trên nhiều loại mẫu khác nhau.

    Industrial SEM for Semiconductor Inspection

Thông số kỹ thuật hiệu năng chính

  • Tốc độ chụp ảnhThời gian lấy nét: 10 ns/pixel; tốc độ thu nhận tối đa 2×100 triệu pixel/giây (nhanh hơn 5 lần so với kính hiển vi điện tử quét thông thường).

  • Điện áp gia tốc: 100V–6kV (chế độ giảm tốc) cho độ phân giải cao ở điện áp thấp; 6kV–30kV (chế độ không giảm tốc) cho khả năng xuyên sâu.

  • Nghị quyết: 1,3nm @3 kV (SE), 2,2 nm @1 kV (SE); 1,9nm @3 kV (BSE), 3,3 nm @1 kV (BSE).

  • Góc nhìn: Tối đa 1×1 mm²; trường vi biến dạng độ phân giải cao 32×32 μm².

  • Giai đoạn mẫu: Bàn dịch chuyển 3 trục điều khiển bằng động cơ (X/Y: hành trình 110mm, Z: 28mm); độ lặp lại ±0,6 μm (X)/±0,3 μm (Y).

  • Hệ thống chân khôngMáy hút chân không hoàn toàn tự động, không dầu, đảm bảo hoạt động không bị ô nhiễm.

  • Low-Voltage High-Resolution SEM

Tự động hóa và ứng dụng thông minh

HEM6000 có các tính năng sau:quy trình tự động hóa tốc độ caoVới khả năng tải/dỡ mẫu hoàn toàn tự động (thời gian chu kỳ <15 phút), tự động lấy nét, tự động điều chỉnh độ sáng/độ tương phản và tự động ghép ảnh.trường lớn độ méo thấpThiết kế tuân theo các trục trường quét động để giảm thiểu hiện tượng nhòe cạnh, trong khiđiện áp thấp độ phân giải caoKhả năng này (thông qua việc giảm tốc giai đoạn lấy mẫu) giúp bảo quản các mẫu vật nhạy cảm.

Phạm vi ứng dụng bao gồm:

  • Ngành công nghiệp bán dẫnPhân tích lỗi wafer, kiểm tra bao bì.

  • Khoa học sự sốngNghiên cứu hình thái tế bào/mô.

  • Khoa học Vật liệuĐặc trưng cấu trúc nano, phân tích vật liệu composite.

  • Khoa học Địa chấtPhân tích thành phần khoáng vật và vết nứt.

  • HEM6000 High-Speed Scanning Electron Microscope

Phần mềm & Khả năng mở rộng

Hệ thống chạy trên hệ điều hành Windows với hỗ trợ tiếng Trung/tiếng Anh, cung cấp điều hướng bằng quang học/cử chỉ, giảm nhiễu bằng AI (tùy chọn), tái tạo 3D và phân tích dữ liệu lớn. Các đầu dò tiêu chuẩn bao gồm đầu dò SE/BSE trong ống kính; các nâng cấp tùy chọn bao gồm làm sạch plasma, giá đỡ mẫu 6 inch và giảm chấn rung chủ động.

Industrial SEM for Semiconductor Inspection

Từ khóa cốt lõi SEO

  1. Kính hiển vi điện tử quét tốc độ cao HEM6000

  2. SEM độ phân giải nanomet

  3. Hệ thống chụp ảnh SEM tự động

  4. SEM diện tích lớn đa thang đo

  5. SEM độ phân giải cao điện áp thấp

  6. Kính hiển vi điện tử quét (SEM) với tốc độ chụp ảnh nhanh hơn gấp 5 lần.

  7. Kính hiển vi điện tử quét công nghiệp dùng để kiểm tra chất bán dẫn

  8. Kính hiển vi điện tử quét (SEM) khoa học dành cho nghiên cứu vật liệu.

  9. SEM nạp mẫu tự động

  10. SEM súng bắn electron độ sáng cao


Nhận giá mới nhất? Chúng tôi sẽ trả lời sớm nhất có thể (trong vòng 12 giờ)

Chính sách bảo mật

close left right